由于含有金刚石成分，DLC具有很多优良的特性：高硬度—60GPa或Hv6000以上；低摩擦系数—0.06；极好的膜层致密性；良好的化学稳定性以及良好的光学性能等。应用于刀具上的DLC涂层所表现出的特殊性能远超过其它硬质涂层。涂以DLC的刀具主要应用于石墨切削，各种有色金属（如铝合金，铜合金等）切削，非金属硬质材料（如亚克力，玻璃纤维，PCB材料）切削等。
目前制备类金刚石薄膜的方法主要有电化学法、物理气相沉积法和化学气相沉积法三大类。其中电化学方法制备的类金刚石薄膜的性能较差，无法达到应用要求；工业上采用较多的是物理气相沉积法，但该方法对设备和环境的要求很高，设备的操作也比较复杂，因此很难实现类金刚石薄膜的批量化生产；化学气相沉积法对设备的要求不高，容易实现类金刚石薄膜的批量化生产，但目前在类金刚石薄膜的制备工艺方面还存在一些问题有待解决，尚未实现类金刚石薄膜的工业化。
下面简要介绍几种常见的DLC制备方法：
首先介绍一下物理气象沉积法,即PVD法, 是镀膜行业常用的术语。物理气相沉积是通过蒸发，电离或溅射等过程，产生金属粒子并与反应气体反应形成化合物沉积在工件表面。物理气象沉积方法有真空镀，真空溅射和离子镀三种，目前应用较广的是离子镀。
近十多年来，真空离子镀膜技术的发展是最快的，它已经成为当今最先进的表面处理方式之一。我们通常所说的PVD镀膜 ，指的就是真空离子镀膜；通常所说的PVD镀膜机，指的也就是真空离子镀膜机。
离子镀是借助于惰性气体辉光放电，使镀料（如金属钛）气化蒸发离子化，离子经电场加速，以较高能量轰击工件表面，此时如通入CO2，N2等反应气体，便可在工件表面获得TiC,TiN覆盖层，硬度高达2000HV。离子镀的重要特点是沉积温度只有500℃左右，且覆盖层附着力强，适用于高速钢工具，热锻模等。
化学气相沉积(Chemical vapor deposition，简称CVD)是反应物质在气态条件下发生化学反应，生成固态物质沉积在加热的固态基体表面，进而制得固体材料的工艺技术。它本质上属于原子范畴的气态传质过程。
电化学方法，它的主要优点为:(1)一般可在常温常压下进行；(2)易控制电极反应的方向；(3)可通过调节电极电位来改变反应的速度；(4)适宜工业化生产,在平整表面和不规则表面均能大面积成膜；(5)环境污染少,利于环境保护。
电化学沉积法制备DLC薄膜采用含碳的纯净有机溶液作为电解质,这些有机溶剂在一般条件下不会离解成离子,极化程度也很弱.因此通常在两个电极之间施加很高的电压,即利用强电场使溶液中的C—H,C—O和O—H等键发生断裂生成"碳碎片",从而使含碳的成分以极性基团或离子的形式到达基片,并且在基片所处的高电位下得以活化,进而生成含一定sp3成分的类金刚石薄膜.
目前DLC主要缺点在于制备过程中产生的较大内应力使膜基结合较差，膜厚受到限制（DLC膜厚度一般不大于15μm），严重影响了薄膜的实用化。为了解决膜基结合较差问题，科研工作者做了各种不同工作，其中有：选择不同的金属或金属氮化物碳化物过渡层、多层膜、梯度膜、Me-DLC、纳米复合膜、超晶格结构膜等。这些工作都不同程度的改进了DLC膜的力学、摩擦磨损以及各种物理化学性能。
随着DLC涂层的应用市场逐渐扩大以及相关科研院所、企业等机构对不同应用领域的各种DLC细分工艺的开发，这一新兴涂层将在不久的将来为更多的用户和行业所采用。